研究者業績
基本情報
- 所属
- 上智大学 理工学部機能創造理工学科 教授(兼任)半導体研究所所長
- 学位
- 工学士(上智大学)工学修士(上智大学)博士(工学)(上智大学)
- 研究者番号
- 90266073
- J-GLOBAL ID
- 200901002456943226
- researchmap会員ID
- 1000167938
1992年 4月~1994年 3月 日本学術振興会 特別研究員
1992年 4月~1994年 3月 上智大学 理工学部 客員研究員
1994年 4月~2006年 3月 上智大学 理工学部 助手
2006年 4月~2008年 3月 上智大学 理工学部 講師
2008年 3月~2015年 3月 上智大学 理工学部 准教授
2015年 4月~現在 上智大学 理工学部 教授
1995年11月~1996年 7月 通産省 電子技術総合研究所 通商産業技官(非常勤)
1996年 8月~1998年 3月 通産省 電子技術総合研究所 外来研究員(非常勤)
専門領域:半導体工学、光・量子エレクトロニクス、ナノ結晶工学、有機半導体デバイス
担当科目:アナログ電子回路、光エレクトロニクス、光デバイス工学(院)、機能創造理工学実験・演習1、機能創造理工学実験・演習2、情報フルエンシー「HTMLとCSSを用いたWEBページ作成技法」
(研究テーマ)
窒化物半導体ナノコラム結晶を用いた新しい機能性デバイス材料の開発
InGaNナノコラムの多色発光機構の解明とデバイス応用に関する研究
短波長半導体レーザに関する研究
研究キーワード
14経歴
1-
1992年4月 - 1994年3月
学歴
1-
1983年4月 - 1987年3月
受賞
2-
2005年
-
1995年
論文
232-
APPLIED PHYSICS LETTERS 81(6) 972-974 2002年8月
-
Applied Physics Letters 81(7) 1234-1236 2002年8月
-
APPLIED PHYSICS LETTERS 81(9) 1729-1731 2002年8月
-
Physica status solidi (a) 192(1) 124-128 2002年7月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH 192(1) 201-205 2002年7月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH 192(1) 206-211 2002年7月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 237(2) 988-992 2002年4月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLICATIONS AND MATERIALS SCIENCE 190(1) 23-31 2002年3月 査読有り
-
Physica Status Solidi (A) Applied Research 190(1) 23-31 2002年3月
-
Device Research Conference - Conference Digest, DRC 2002- 157-158 2002年
-
Conference Digest - IEEE International Semiconductor Laser Conference 123-124 2002年
-
2002 IEEE/LEOS ANNUAL MEETING CONFERENCE PROCEEDINGS, VOLS 1 AND 2 835-836 2002年 査読有り
-
PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC RESEARCH 229(1) 107-110 2002年1月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC RESEARCH 229(2) 987-990 2002年1月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI B-BASIC RESEARCH 229(2) 1001-1004 2002年1月
-
Japanese journal of applied physics. Pt. 2, Letters 40(3) 192-194 2001年12月We report on the successful growth of free-standing GaN films on (0001) sapphire substrates by RF-molecular beam epitaxy. The key to obtain unstrained GaN layers is employing self-organized GaN nano-columns which involve an air gap structure as a footing layer of overgrown GaN. The residual strain in overgrown GaN films is evaluated by measuring the lattice constant by X-ray diffraction. It is found that the c-axis length of overgrown GaN is estimated to be 5.1848 Å, which is close to the value of strain-free GaN even with a layer thickness of 2.7 μm. Overgrown GaN peeled arbitrarily from GaN nano-columns is observed due to the cleaving process.
-
JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY 39(91) S18-S22 2001年12月
-
III-Nitride Based Semiconductor Electronics and Optical Devices and thirty-fourth State-of-the-Art-Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXXIV) : proceedings of the International Symposia 13-18 2001年12月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 40(12) 6747-6752 2001年12月
-
JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY 39 S18-S22 2001年12月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH 188(1) 187-190 2001年11月
-
Physica Status Solidi (a) 188(1) 321-324 2001年11月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 230(3-4) 387-391 2001年9月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 227(1-4) 660-664 2001年7月
-
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY 82(1-3) 12-15 2001年5月
-
Physica Status Solidi (a) 180(1) 37-43 2000年7月
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH 180(1) 65-71 2000年7月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 214(2) 321-324 2000年6月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 39(4B) L330-L333 2000年4月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 39(3AB) L197-L199 2000年3月
-
IEEE International Symposium on Compound Semiconductors, Proceedings 473-478 2000年
-
Materials Research Society symposia proceedings 639 pp.G3.33.1-G3.33-6. 2000年1月
-
PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL WORKSHOP ON NITRIDE SEMICONDUCTORS 1 154-157 2000年
-
PROCEEDINGS OF THE INTERNATIONAL WORKSHOP ON NITRIDE SEMICONDUCTORS 1 907-910 2000年 査読有り
-
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH 176(1) 273-277 1999年11月
-
Physica Status Solidi (a) 176(1) 323-328 1999年11月
-
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY 59(1-3) 65-68 1999年5月
-
Journal of Crystal Growth 201 954-956 1999年5月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 38(4B) 2598-2602 1999年4月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 189(1-2) 138-141 1998年6月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 189(1-4) 109-113 1998年6月
-
Journal of Crystal Growth 189(1-2) 385-389 1998年6月
-
IEEE JOURNAL OF SELECTED TOPICS IN QUANTUM ELECTRONICS 4(3) 550-556 1998年5月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS 37(3B) 1465-1469 1998年3月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 184 16-20 1998年2月
-
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH 184 732-736 1998年2月
-
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 81(11) 7575-7579 1997年6月
-
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS 36(4B) L459-L462 1997年4月
-
SOLID-STATE ELECTRONICS 41(2) 283-286 1997年2月
-
COMPOUND SEMICONDUCTORS 1996 155(155) 187-190 1997年
MISC
87-
日本物理学会講演概要集 68(1) 790-790 2013年3月26日
-
日本物理学会講演概要集 68(1) 848-848 2013年3月26日
-
26aEH-11 窒化物半導体ナノコラムにおけるレーザー発振(26aEH 領域5,領域1合同 フォトニック結晶・メタマテリアル・プラズモニクス,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))日本物理学会講演概要集 68(1) 194-194 2013年3月26日
-
電子情報通信学会技術研究報告. OME, 有機エレクトロニクス 112(57) 25-29 2012年5月17日エレクトロスプレー法の一種であり、ノズル近傍に引出電極を装荷したナノミスト堆積(NMD)法を用いて、緑色発光高分子であるF8BT薄膜の成膜特性を評価した。電極-基板間距離を広げることにより塗布領域は線形に拡大し、直径47mm程度の領域に成膜が可能であった。成膜条件の制御により表面粗さ(Ra)4.9nm程度の平坦な成膜が得られた。また、AZO/F8BT/MoO_3無機有機複合型LEDのF8BT層成膜にNMDを用い、スピンコート法と遜色無い良好な電気特性と発光特性を得た。さらに、TPD/F8BT/BCP:低分子/高分子/低分子積層構造OLEDをNMD法で作製し明瞭な整流特性と電流注入発光を得ることにより、有機多層構造の形成が可能であることを実証した。
書籍等出版物
17講演・口頭発表等
802-
2023 International Conference on Solod State Devices and Materials (SSDM 2023) 2023年9月8日
-
The 13th International Conference on Metamaterials, Photonic Crystals and Plasmonics (META 2023) 2023年7月21日
-
Compound Semiconductor Week 2023 (CSW2023) 2023年6月1日
-
Compound Semiconductor Week 2023 (CSW2023) 2023年5月28日
所属学協会
6主要な共同研究・競争的資金等の研究課題
25-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2019年6月 - 2023年3月
-
科学技術振興機構 戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST 2018年 - 2023年
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2017年4月 - 2022年3月
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2016年4月 - 2019年3月
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2012年4月 - 2016年3月
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2012年4月 - 2015年3月
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2009年 - 2011年
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2006年 - 2008年
-
2006年 - 2008年
-
NEDO産業技術研究助成 2002年 - 2006年
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2001年 - 2002年
-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 1999年 - 2000年
産業財産権
39その他
16-
2006年10月当日の授業内容に関する小テストを行って授業内容の理解度を確認している。講義時間が若干減るが、むしろ授業に対する学生の集中度が増して講義の効率が高まっている。\n小テストは採点して次回の授業で返却している。回答率の悪い問題に対しては復習を兼ねた解説を行っている。
-
2006年4月授業(講義により頻度は異なる)において、進行速度、理解度、取り上げてほしいテーマなどを記述できるリアクションペーパを配布してその場で回収し、次回の授業計画にフィードバックしている。\n特に、学生の理解度を把握をする上で効果が高い。理解度の低いと思われる内容については次回の授業の初めに復習を行っている。
-
2006年4月授業終了時に課題を与え、提出期限を次回の授業前日と設定し、次回の授業で課題の解説を行っている。\n授業時間後の復習効果が高まり、復習として効果的である。
-
2006年4月コンピュータを用いた授業では、重要なテーマ毎に簡単な演習課題を与え、着実に理解できるような授業構成を心がけている。\n演習時にはTAが個別に対応することで、理解度の異なる学生に対しても綿密な指導ができるよう配慮している。