研究者氏名 内田 寛
ウチダ ヒロシ URL 所属 上智大学 部署 理工学部物質生命理工学科 職名 教授 学位 修士(工学)(上智大学), 博士(工学)(東京工業大学) 科研費研究者番号 60327880 J-Global ID 200901055907958881
プロフィール 上智大学 理工学部物質生命理工学科 無機工業化学グループ (上智大学大学院 理工学研究科理工学専攻 応用化学領域) 主要な研究テーマ: 溶液プロセスを主体とした無機マイクロ・ナノ材料製造技術の研究開発(低温合成・組成制御・三次元加工・化学溶液堆積・水熱合成・超臨界流体) エレクトロニクス&エネルギーデバイス用新規化合物の探索(誘電体・圧電体・半導体/高性能材料・環境調和型材料) 近年の活動内容: 溶液プロセスによる高性能な強誘電体/圧電体薄膜の製造技術開発 環境親和型強誘電体/圧電体薄膜材料の探索 水熱合成プロセスによる無機材料薄膜の創製 超臨界流体を用いた無機材料合成プロセスの開発
研究キーワード
ゾルゲル法
,化学溶液堆積
,水熱合成
,超臨界流体
,金属酸化物ナノシート
,非鉛含有
,強誘電体
,薄膜
,無機材料
研究分野
ナノテク・材料 / 材料加工、組織制御 /
ナノテク・材料 / 無機物質、無機材料化学 /
ナノテク・材料 / 無機材料、物性 /
経歴
2018年4月
-
現在
上智大学 理工学部 物質生命理工学科 教授
2010年4月
-
2018年3月
上智大学 理工学部 物質生命理工学科 准教授
2008年4月
-
2010年3月
上智大学 理工学部 物質生命理工学科 助教
2000年4月
-
2008年3月
上智大学 理工学部 化学科 助手
2006年4月
-
2007年3月
University of Texas at Austin Department of Chemical and Petroleum Engineering Visiting Researcher
学歴
1997年4月
-
2000年3月
東京工業大学 大学院理工学研究科 材料工学専攻
1995年4月
-
1997年3月
上智大学 理工学研究科 応用化学専攻
1994年4月
-
1995年3月
上智大学 理工学部 化学科 (2008年度改組)
論文
Taisei SUZUKI   Takao SHIMIZU   Takanori MIMURA   Hiroshi UCHIDA   Hiroshi FUNAKUBO   
Jpn. J. Appl. Phys. 57(11) 11UF15-1-11UF15-4 2018年10月 [査読有り]
YO1.5-doped HfO2 films were deposited on yttria-stabilized zirconia substrates by RF magnetron sputtering at room temperature and under various atmosphere conditions. The deposited films were treated by rapid thermal annealing under both O-2 and N...
Shiraishi, T.   Kaneko, N.   Kurosawa, M.K.   Uchida, H.   Funakubo, H.   
Funtai Oyobi Fummatsu Yakin/Journal of the Japan Society of Powder and Powder Metallurgy 65(10) 673-677 2018年10月 [査読有り]
Shuhei NAKAYAMA   Hiroshi FUNAKUBO   Hiroshi UCHIDA   
Japanese Journal of Applied Physics 57(11S) 11UF06-1-11UF06-5 2018年9月 [査読有り]
Takanori MIMURA   Takao SHIMIZU   Hiroshi UCHIDA   Osami SAKATA   Hiroshi FUNAKUBO   
Appl. Phys. Lett. 113(10) 102901-1-102901-4 2018年9月 [査読有り]
The thickness dependences of the crystal structure and electric properties of (111)-oriented epitaxial 0.07Y(2)O(3)-HfO2 (YHO7) ferroelectric films were investigated for the film thickness range of 10-115 nm. The YHO7 films were grown by pulsed la...
Takahisa SHIRAISHI   Sujin CHOI   Takanori KIGUCHI   Takao SHIMIZU   Hiroshi UCHIDA   Hiroshi FUNAKUBO   Toyohiko J. Konno   
Jpn. J. Appl. Phys 57(11) 11UF02-1-11UF02-5 2018年8月 [査読有り]
In this study, the effect of Fe doping on the crystal structure and electrical properties in 20-nm-thick HfO2 epitaxial thin films were systematically investigated. X-ray diffraction measurements revealed that undoped HfO2 films were composed of a...
MISC
内田 寛   
セラミックス 58(12) 792-796 2023年12月 [招待有り]
舘山明紀   伊東良晴   中村美子   清水荘雄   折野裕一郎   黒澤実   内田寛   白石貴久   木口賢紀   今野豊彦   熊田伸弘   吉村武   舟窪浩   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 66th 2019年
島 宏美   内田 寛   中嶋 宇史   岡村 総一郎   福田 翔太郎   亀井 利久   
電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報 117(291) 73-77 2017年11月
鈴木大生   三村和仙   清水荘雄   内田寛   舟窪浩   舟窪浩   
セラミックス基礎科学討論会講演要旨集 55th 2017年
鈴木大生   三村和仙   清水荘雄   内田寛   舟窪浩   
応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 64th 2017年
書籍等出版物
大倉利典, 小嶋, 芳行, 相澤, 守, 内田, 寛, 柴田, 裕史(担当:共著)
培風館 2023年6月7日 (ISBN:4563046418)
内田 寛(担当:分担執筆, 範囲:p.389-399, 第10章第4節「ペロブスカイト型強誘電体・圧電体薄膜の結晶配向性制御による分極特性の改善」)
情報通信協会 2020年8月31日
内田 寛(担当:分担執筆, 範囲:p.389-399 「化学的薄膜堆積 . 超臨界流体を用いたエッチング加工」)
コロナ社 2012年9月6日 (ISBN:9784339008371)
講演・口頭発表等
野地 航平   横田 幸恵   内田 寛   
第4回酸素酸塩材料科学研究会 2024年1月20日
内田 寛   山崎佑介   横田幸惠   島 宏美   白石貴久   木口賢紀   舟窪 浩   
日本セラミックス協会 第 43 回電子材料研究討論会 2023年11月10日
野地 航平   横田 幸恵   内田 寛   
公益社団法人日本セラミックス協会第36回秋季シンポジウム 2023年9月7日
JIN XIN   横田幸恵   内田寛   
公益社団法人日本セラミックス協会第36回秋季シンポジウム 2023年9月7日
栗林 優太   横田 幸恵   内田 寛   
公益社団法人日本セラミックス協会第36回秋季シンポジウム 2023年9月6日
所属学協会
Material Research Society
産業財産権
舟窪浩 舘山明紀 伊東良晴 清水荘雄 折野裕一郎 黒澤実 内田寛 白石貴久 木口賢紀 熊田伸弘