研究者業績
基本情報
- 所属
- 上智大学 理工学部機能創造理工学科 教授(兼任)半導体研究所所長
- 学位
- 工学士(上智大学)工学修士(上智大学)博士(工学)(上智大学)
- 研究者番号
- 90266073
- J-GLOBAL ID
- 200901002456943226
- researchmap会員ID
- 1000167938
1992年 4月~1994年 3月 日本学術振興会 特別研究員
1992年 4月~1994年 3月 上智大学 理工学部 客員研究員
1994年 4月~2006年 3月 上智大学 理工学部 助手
2006年 4月~2008年 3月 上智大学 理工学部 講師
2008年 3月~2015年 3月 上智大学 理工学部 准教授
2015年 4月~現在 上智大学 理工学部 教授
1995年11月~1996年 7月 通産省 電子技術総合研究所 通商産業技官(非常勤)
1996年 8月~1998年 3月 通産省 電子技術総合研究所 外来研究員(非常勤)
専門領域:半導体工学、光・量子エレクトロニクス、ナノ結晶工学、有機半導体デバイス
担当科目:アナログ電子回路、光エレクトロニクス、光デバイス工学(院)、機能創造理工学実験・演習1、機能創造理工学実験・演習2、情報フルエンシー「HTMLとCSSを用いたWEBページ作成技法」
(研究テーマ)
窒化物半導体ナノコラム結晶を用いた新しい機能性デバイス材料の開発
InGaNナノコラムの多色発光機構の解明とデバイス応用に関する研究
短波長半導体レーザに関する研究
研究キーワード
14経歴
1-
1992年4月 - 1994年3月
学歴
1-
1983年4月 - 1987年3月
受賞
2-
2005年
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1995年
論文
231-
Extended Abstract of the 2023 International Conference on Solid State Devices and Materials 2023年9月 査読有り最終著者責任著者
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Extended Abstract of the 2022 International Conference on Solid State Devices and Materials 2022年9月 査読有り最終著者責任著者
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Japanese Journal of Applied Physics 61(SC) SC1078-SC1078 2022年3月25日 査読有り最終著者責任著者Abstract The fabrication technology for photonic crystals (PhCs) pertaining to the near-infrared region is mature, and the development of highly functional PhCs using low-symmetry nanoholes is rapidly progressing. In the visible region, InGaN/GaN systems that have good luminescent and electrical properties are the most promising candidate materials for such types of highly functional PhCs, but the development is not progressing. In this study, we report on the basic design parameters and a new fabrication method for InGaN/GaN-based PhC membranes by combining hydrogen environment anisotropic thermal etching based on hydrogen-assisted thermal decomposition and nitric acid wet etching of the AlInN sacrificial layer. Using this method, we fabricated high-quality InGaN/GaN multiple-quantum-well PhC membrane structures having six-membered rings of well-formed fine equilateral triangular nanoholes with a side length of 100 nm. Enhanced green room-temperature photoluminescence with an intensity nine times higher than that of as-grown wafers was observed for the PhC membrane.
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Journal of Crystal Growth 575 126338-126338 2021年12月 査読有り最終著者
MISC
87-
日本物理学会講演概要集 68(1) 790-790 2013年3月26日
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日本物理学会講演概要集 68(1) 848-848 2013年3月26日
-
26aEH-11 窒化物半導体ナノコラムにおけるレーザー発振(26aEH 領域5,領域1合同 フォトニック結晶・メタマテリアル・プラズモニクス,領域1(原子・分子,量子エレクトロニクス,放射線物理))日本物理学会講演概要集 68(1) 194-194 2013年3月26日
-
電子情報通信学会技術研究報告. OME, 有機エレクトロニクス 112(57) 25-29 2012年5月17日エレクトロスプレー法の一種であり、ノズル近傍に引出電極を装荷したナノミスト堆積(NMD)法を用いて、緑色発光高分子であるF8BT薄膜の成膜特性を評価した。電極-基板間距離を広げることにより塗布領域は線形に拡大し、直径47mm程度の領域に成膜が可能であった。成膜条件の制御により表面粗さ(Ra)4.9nm程度の平坦な成膜が得られた。また、AZO/F8BT/MoO_3無機有機複合型LEDのF8BT層成膜にNMDを用い、スピンコート法と遜色無い良好な電気特性と発光特性を得た。さらに、TPD/F8BT/BCP:低分子/高分子/低分子積層構造OLEDをNMD法で作製し明瞭な整流特性と電流注入発光を得ることにより、有機多層構造の形成が可能であることを実証した。
書籍等出版物
17講演・口頭発表等
802-
The Fourth International Conference on Nitride Semiconductors (ICNS-4), B3.3, Denver, U.S.A., 2001年7月16日
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199th Meeting of The Electrochemical Society, Washington, U.S.A. 2001年3月25日
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4th International Conference on Blue Laser and Light Emitting Diodes (ISBLLED-4), FrA3, Cordoba, Spain, 2001年3月12日
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China-Japan Workshop on Nitride Semiconductor Materials and Devices, pp.5-8, Shanghai, China 2001年3月12日
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International Electron Devices and Materials Symposia, p.70, Chung-Li, Taiwan 2000年12月20日
-
Material Research Society 2000 Fall Meeting, G3.33, Boston, U.S.A., 2000年11月27日
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The 10th Seoul International Symposium on The Physics of Semiconductors and Applications, A35, Cheju, Korea, 2000年11月1日
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3rd Korea-Japan Joint Workshop on Short Wavelength Semiconductor Optoelectronic Devices and Materials, p.55, Cheju, Korea 2000年10月30日
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27th International Symposium on Compound Semiconductors, p.129, Monterey, U.S.A., 2000年10月2日
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International Workshop on Nitride Semiconductors, WM2-1, Nagoya, Japan, 2000年9月24日
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, 11th International Conference on Molecular Beam Epitaxy, Tu7.3, Beijing, China, 2000年9月10日
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FSRC Science and Technology of Nitride Materials 2000, La Jolla, U.S.A 2000年8月28日
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International Workshop on Nitride Semiconductors, MM2-4, Nagoya, Japan 2000年8月24日
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, 4th European GaN Workshop, 9B, Nottingham, United Kingdom, 2000年7月2日
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European Materials Research Society Spring Meeting, C-X-6, Strasbourg, France 2000年5月30日
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The 4th Seminar on Science and Technology, p.9, Tokyo, 2000年3月21日
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3rd Int. Symp. on Blue Laser and Light Emittting Diodes (ISBLLED 2000), TuC1, Germany 2000年3月6日
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3rd Int. Symp. on Blue Laser and Light Emitting Diodes (ISBLLED 2000), TuP5, Germany 2000年3月6日
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3rd Japanese-German Workshop, p.15, Germany 2000年3月5日
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International Symposium on Ultra-Parallel Optoelectronics, p.6, Kanagawa, Japan 2000年2月3日
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The Ninth International Conference on II-IV Compounds (II-IV’99), p.12, Kyoto, Japan 1999年11月1日
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2nd Japan-Korea Joint Workshop on Short-Wavelength Semiconductor Optoelectronic Devices and Materials, Chiba, Japan 1999年9月30日
所属学協会
6主要な共同研究・競争的資金等の研究課題
25-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2019年6月 - 2023年3月
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科学技術振興機構 戦略的な研究開発の推進 戦略的創造研究推進事業 CREST 2018年 - 2023年
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2017年4月 - 2022年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2016年4月 - 2019年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2012年4月 - 2016年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2012年4月 - 2015年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2009年 - 2011年
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2006年 - 2008年
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2006年 - 2008年
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NEDO産業技術研究助成 2002年 - 2006年
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2001年 - 2002年
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 1999年 - 2000年
産業財産権
39その他
16-
2006年10月当日の授業内容に関する小テストを行って授業内容の理解度を確認している。講義時間が若干減るが、むしろ授業に対する学生の集中度が増して講義の効率が高まっている。\n小テストは採点して次回の授業で返却している。回答率の悪い問題に対しては復習を兼ねた解説を行っている。
-
2006年4月授業(講義により頻度は異なる)において、進行速度、理解度、取り上げてほしいテーマなどを記述できるリアクションペーパを配布してその場で回収し、次回の授業計画にフィードバックしている。\n特に、学生の理解度を把握をする上で効果が高い。理解度の低いと思われる内容については次回の授業の初めに復習を行っている。
-
2006年4月授業終了時に課題を与え、提出期限を次回の授業前日と設定し、次回の授業で課題の解説を行っている。\n授業時間後の復習効果が高まり、復習として効果的である。
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2006年4月コンピュータを用いた授業では、重要なテーマ毎に簡単な演習課題を与え、着実に理解できるような授業構成を心がけている。\n演習時にはTAが個別に対応することで、理解度の異なる学生に対しても綿密な指導ができるよう配慮している。