研究者業績
基本情報
- 所属
- 上智大学 理工学部物質生命理工学科 教授
- 学位
- 修士(工学)(1997年3月 上智大学)博士(工学)(2001年1月 東京工業大学)
- 連絡先
- uchidah
sophia.ac.jp - 研究者番号
- 60327880
- J-GLOBAL ID
- 200901055907958881
- researchmap会員ID
- 1000367338
上智大学 理工学部物質生命理工学科 無機工業化学グループ
(上智大学大学院 理工学研究科理工学専攻 応用化学領域)
主要な研究テーマ:
- 溶液プロセスを主体とした無機マイクロ・ナノ材料製造技術の研究開発(低温合成・組成制御・三次元加工・化学溶液堆積・水熱合成・超臨界流体)
- エレクトロニクス&エネルギーデバイス用新規化合物の探索(誘電体・圧電体・半導体/高性能材料・環境調和型材料)
近年の活動内容:
- 溶液プロセスによる高性能な強誘電体/圧電体薄膜の製造技術開発
- 環境親和型強誘電体/圧電体薄膜材料の探索
- 水熱合成プロセスによる無機材料薄膜の創製
- 超臨界流体を用いた無機材料合成プロセスの開発
経歴
6-
2018年4月 - 現在
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2010年4月 - 2018年3月
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2008年4月 - 2010年3月
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2000年4月 - 2008年3月
学歴
3-
1997年4月 - 2000年3月
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1995年4月 - 1997年3月
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1994年4月 - 1995年3月
論文
263-
MRS Advances 3(24) 1355-1359 2018年 査読有り
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MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING 70 239-245 2017年11月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(10) 10PF04-1-10PF04-5 2017年10月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(10) 10PF10-1-10PF10-5 2017年10月 査読有り筆頭著者責任著者
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(10) 10PF09-1-10PF09-4 2017年10月 査読有り
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Science of Advanced Materials 9(10) 1806-1809 2017年10月1日 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 56(5) 05DC02-1-05DC02-4 2017年5月 査読有り
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Jpn. J. Appl. Phys. 56(5) 05DC02 2017年3月3日Mg<inf>2</inf>Si thin films were deposited at 320 °C on (001)Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>and (100)CaF<inf>2</inf>substrates by radio-frequency magnetron sputtering. Both films showed a preferential (111) out-of-plane orientation with an in-plane random orientation irrespective of post-heat treatment. Mg<inf>2</inf>Si films on (001)Al<inf>2</inf>O<inf>3</inf>substrates were under in-plane tensile strain, while those on (100)CaF<inf>2</inf>substrates were under in-plane compressive strain both before and after heat treatment. Heat-treated films showed p-type conduction up to 500 °C. Their electrical conductivity and Seebeck coefficient were almost independent of the kind of substrate within the limit of the present study, from 0.22% compressive strain to 0.34% tensile strain at room temperature.
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Advanced Structured Materials 65 65-75 2017年 査読有り
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CERAMICS INTERNATIONAL 43 S501-S505 2017年 査読有り
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JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 125(6) 445-448 2017年 査読有り
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Japanese Journal of Applied Physics 55(10) 2016年10月1日 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(10) 10TC07-1-10TC07-5 2016年10月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(10) 10TA13-1-10TA13- 2016年10月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 55(10) 10TA15-1-10TA15-7 2016年10月 査読有り
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Jpn. J. Appl. Phys. 55(10) 10TA13 2016年9月16日(Bi,K)TiO<inf>3</inf>films were grown on (001)<inf>c</inf>SrRuO<inf>3</inf>// (100)SrTiO<inf>3</inf>substrates by pulsed laser deposition (PLD) at various temperatures. The K/Ti and Bi/Ti ratios of the films were almost the same at 350 and 500 °C, but decreased markedly at 650 °C. The ferroelectric property was ascertained for epitaxial tetragonal (Bi,K)TiO<inf>3</inf>films grown at 500 °C from polarization–electric field relationships, and their saturation polarization (P<inf>sat</inf>) and coercive field (E<inf>c</inf>) at a maximum electric field of 800 kV/cm were 18 µC/cm2and 300 kV/cm, respectively. To improve the ferroelectric property, the films were heat-treated at 650 °C while keeping the films in the PLD chamber after film deposition. These films also maintained a (001)-oriented epitaxy and had a tetragonal symmetry. The P<inf>sat</inf>and E<inf>c</inf>obtained at an electric field of 800 kV/cm were changed to 22 µC/cm2and 95 kV/cm, respectively. Moreover, these P<inf>sat</inf>and E<inf>c</inf>values increased to 31 µC/cm2and 165 kV/cm, respectively, at a maximum electric field of 1500 kV/cm. These heat-treated (Bi,K)TiO<inf>3</inf>films showed piezoelectricity with an apparent piezoelectric coefficient (d<inf>33(AFM)</inf>) of 22 pm/V.
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Applied Physics Letters 109(11) 112901-1-112901-5 2016年9月12日 査読有り
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APPLIED PHYSICS LETTERS 109(5) 052903-1-052903-3 2016年8月 査読有り
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JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 124(6) 648-652 2016年6月 査読有り
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JOURNAL OF ELECTRONIC MATERIALS 45(6) 3121-3126 2016年6月 査読有り
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APPLIED PHYSICS LETTERS 108(26) 262904-1-262904-5 2016年6月 査読有り
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JOURNAL OF SOL-GEL SCIENCE AND TECHNOLOGY 78(2) 373-381 2016年5月 査読有り
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JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 119(13) 134101-1-134101-7 2016年4月 査読有り
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JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH 31(6) 693-701 2016年3月 査読有り
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Japanese Journal of Applied Physics 55(2) 2016年2月1日 査読有り
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SCIENTIFIC REPORTS 6 20713-1-20713-9 2016年2月 査読有り
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JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 124(1) 18-22 2016年1月 査読有り
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AIP ADVANCES 6(1) 015304-1-015304-7 2016年1月 査読有り
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PHOTOCHEMICAL & PHOTOBIOLOGICAL SCIENCES 15(8) 1061-1070 2016年 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54(10) 10ND06-1-10ND06-6 2015年10月 査読有り
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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 54(10) 10NA15-1-10NA15-4 2015年10月 査読有り
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Journal of Materiomics 1(3) 188-195 2015年9月1日 査読有り
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AIP ADVANCES 5(7) 077139-1-077139-8 2015年7月 査読有り
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JOURNAL OF THE CERAMIC SOCIETY OF JAPAN 123(1437) 322-328 2015年5月 査読有り
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Materials Research Society Symposium Proceedings Vol. 1729 2015年
MISC
60書籍等出版物
5講演・口頭発表等
102共同研究・競争的資金等の研究課題
21-
日本学術振興会 科学研究費助成事業 2023年4月 - 2026年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2022年4月 - 2025年3月
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日本学術振興会 科学研究費助成事業 2022年4月 - 2025年3月
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理工学部申請型研究費(応募制) 2019年 - 2020年3月
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上智学院 学術研究特別推進費「自由課題研究」 2016年4月 - 2019年3月
